塵埃除去マットおよびプリント基板製造装置のクリーニング方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-148340
公開番号（公開出願番号）：特開2002-344110
出願日： 2001年05月17日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】プリント基板製造装置のクリーニングを、装置の稼働ロスを発生させることなく、再現性よく、均一かつ完全に行える塵埃除去マットを提供する。【解決手段】プリント基板製造装置内部の塵埃を除去するための塵埃除去マットであって、板状の本体部11と、本体部11の少なくとも片面に設けられた、粘着性を有するシリコーンゴム層13とを具備する。

請求項（抜粋）：

プリント基板製造装置内部の塵埃を除去するための塵埃除去マットであって、板状の本体部と、該本体部の少なくとも片面に設けられた、粘着性を有するシリコーンゴム層とを具備することを特徴とする塵埃除去マット。

IPC (6件)：

H05K 3/00 , A47L 25/00 , B08B 1/00 , B32B 25/20 , C09J 7/02 , C09J183/04

FI (6件)：

H05K 3/00 Z , A47L 25/00 B , B08B 1/00 , B32B 25/20 , C09J 7/02 Z , C09J183/04

Fターム (35件)：

3B116AA47 , 3B116AB54 , 3B116BA08 , 3B116BA22 , 3B116BA34 , 4F100AK42C , 4F100AK52B , 4F100AN02B , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100DD07B , 4F100EJ39B , 4F100GB90 , 4F100JL06 , 4F100JL13B , 4J004AA11 , 4J004AB01 , 4J004CA06 , 4J004CC03 , 4J004CE01 , 4J004CE02 , 4J004FA05 , 4J004FA10 , 4J040EK031 , 4J040JB09 , 4J040LA06 , 4J040MA02 , 4J040MA05 , 4J040MB05 , 4J040NA20 , 4J040PA33

引用特許：

審査官引用 (6件)

半導体基板処理装置のクリーニング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-311535 出願人：株式会社東芝
クリーニングテープ
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-298392 出願人：平成ポリマー株式会社
特開昭63-008136

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