特許
J-GLOBAL ID:200903083618773564
絶縁基板及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 正行
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-217086
公開番号(公開出願番号):特開平6-040783
出願日: 1992年07月21日
公開日(公表日): 1994年02月15日
要約:
【要約】【目的】セラミックス基板上に形成される層を構造面から検討し、表面平滑性及び蓄熱性に優れた絶縁基板を提供する。【構成】セラミックス基板上に、結晶化可能な平均粒子径5μm以下のガラス粉末と平均粒子径40μm以下の可燃性粒子との混合物を塗布し、焼成し、次いで結晶化しないガラス粉末を塗布し焼成する。
請求項(抜粋):
セラミックス基板、このセラミックス基板の上方に形成され、多数の気泡を有する蓄熱層及びこの蓄熱層の上方に形成され、表面粗度Raが0.6μm以下の表面層を備えていることを特徴とする絶縁基板。
IPC (5件):
C04B 41/89
, C03C 10/08
, C03C 11/00
, C04B 41/85
, H05K 1/03
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-128256
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特開平1-272465
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特開昭63-019270
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