回転乾燥方法および回転乾燥装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-004575
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195375
出願日： 1995年01月17日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】回転乾燥後、表面にミストの付着のないウエハが得られるようにする。【構成】液体で処理したウエハを回転させつつ乾燥させる際に、液膜が無くなる前より、ウエハ1表面上の液膜が無くなった時点または液膜が無くなった直後において、ウエハ1の回転数が高くなるようにその回転数を制御するようにする。

請求項（抜粋）：

液体で処理したウエハを回転させつつ乾燥する回転乾燥方法において、前記乾燥の際は、前記ウエハ表面上の液膜が無くなった時点または液膜が無くなった直後に、該液膜が無くなる前より前記ウエハの回転数が高くなるように該回転数を制御することを特徴とする回転乾燥方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 361 , F26B 5/08 , F26B 25/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-073628
特開昭62-188323
特開昭63-073628

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