特許

J-GLOBAL ID：200903083630939290

フォトレジスト用組成物

発明者： 丸尾 正剛 ,  匠 伸祐 ,  鷹取 滋
出願人/特許権者： 石原産業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360935
公開番号（公開出願番号）：特開平5-173319
出願日： 1991年12月13日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】【目的】半導体素子や集積回路構成、さらにはオフセット印刷製版等の作製におけるフォトレジストパターン加工に有用なフォトレジスト用組成物を提供する。【構成】平均粒子径が0.002〜0.2μmである金属酸化物もしくはオキシ金属水酸化物の微粉末を、ノボラック樹脂等の感光性樹脂に対して0.05〜20重量%含有させることからなるフォトレジスト用組成物。

請求項（抜粋）：

平均粒子径が0.002〜0.2μmの金属酸化物もしくはオキシ金属水酸化物の微粉末を、感光性樹脂に対して0.05〜20重量%含有してなるフォトレジスト用組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027