特許
J-GLOBAL ID:200903083636157862

カプセル粒子製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-182300
公開番号(公開出願番号):特開2001-009267
出願日: 1999年06月28日
公開日(公表日): 2001年01月16日
要約:
【要約】【課題】皮膜の厚さが均一なカプセル粒子を効率よく製造しうる製造装置及び該製造装置を用いてカプセル粒子を製造する方法を提供すること。【解決手段】多重ノズルと原料供給管とがシリンダ室を介して接続され、該シリンダ室内に摺動自在にピストンが装着されてなり、該ピストンの直径が原料供給管の内径よりも大であるカプセル粒子製造装置。
請求項(抜粋):
多重ノズルと原料供給管とがシリンダ室を介して接続され、該シリンダ室内に摺動自在にピストンが装着されてなり、該ピストンの直径が原料供給管の内径よりも大であるカプセル粒子製造装置。
IPC (3件):
B01J 13/04 ,  A61J 3/07 ,  A61K 9/50
FI (3件):
B01J 13/02 A ,  A61J 3/07 L ,  A61K 9/50
Fターム (21件):
4C076AA61 ,  4C076DD09 ,  4C076DD38 ,  4C076DD46 ,  4C076EE42 ,  4C076EE53 ,  4C076GG31 ,  4G005AA10 ,  4G005AB14 ,  4G005AB17 ,  4G005BA11 ,  4G005BB03 ,  4G005BB12 ,  4G005BB30 ,  4G005CA05 ,  4G005DB06Z ,  4G005DB30X ,  4G005DC32W ,  4G005EA01 ,  4G005EA03 ,  4G005EA07

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