特許

J-GLOBAL ID：200903083637293980

新規アミド化合物およびそれらの一酸化窒素シンターゼ阻害剤としての用途

発明者： 伊藤 義邦 ,  井上 隆幸 ,  濱島 仁 ,  嶋 一郎 ,  大根 和彦 ,  吉原 耕生 ,  奥 照夫 ,  谷田部 巧
出願人/特許権者： 藤沢薬品工業株式会社
代理人 (1件)： 高島 一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-527528
公開番号（公開出願番号）：特表2001-505585
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：

【要約】式(式中、各記号は明細書で定義した通りである)で表される化合物およびその医薬的に許容される塩。本発明の化合物(I)およびその医薬的に許容される塩は、一酸化窒素(NO)の産生に対して強力な阻害活性を有し、成人呼吸窮迫症候群、心血管虚血、心筋炎、心不全、滑膜炎、ショック、糖尿病、糖尿病性腎症、糖尿病性網膜症、糖尿病性神経障害、糸球体腎炎、消化性潰瘍、炎症性腸疾患、脳梗塞、脳虚血、脳出血、片頭痛、慢性関節リウマチ、痛風、神経炎、ヘルペス後神経痛、変形性関節症、骨粗鬆症、全身性エリテマトーデス、臓器移植による拒絶反応、喘息、転移、アルツハイマー病、関節炎、CNS障害、皮膚炎、肝炎、肝硬変、多発性硬化症、膵炎、アテローム性動脈硬化症などのヒトおよび動物におけるNO媒介疾患の予防および/または治療に有用である。

請求項（抜粋）：

式〔式中、R1は低級アルキル、フェニル、ハロゲン、低級アルコキシおよびニトロからなる群より選ばれる適当な置換基を有していてもよいインドリル;ベンゾフラニル;アミノ、アシルアミノ、低級アルキルアミノ、ハロゲン、低級アルコキシおよびニトロからなる群より選ばれる適当な1個または2個の置換基を有していてもよいフェニル;低級アルキル;キノキサリニル;キノリル;ピロリル;ベンゾフラニルを有するビリミジニル;ベンゾイミダゾリル;ベンゾチエニル:ベンゾチアゾリル;ベンゾオキサゾリル;インドリニル;アニリノ;フェニルカルバモイル;またはフェニル、低級アルキルおよびインドリルからなる群より選ばれる適当な1個または2個の置換基を有していてもよいイミダゾリルであり;R2は水素またはフェニル(低級)アルキルであり;R4は水素、フェニル、ピリジル、キノリルまたは3,4-メチレンジオキシフェニルであり、当該フェニルまたはピリジルは、それぞれ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、ハロゲン、トリハロメチル、ニトロ、シアノ、イミダゾリル、保護されていてもよい水酸基、アシル、アミノ、アシルアミノ、ジアシルアミノ、ジ(低級)アルキルアミノ、アミノ(低級)アルキル、アシルアミノ(低級)アルキル、ピラゾリル、モルホリニル、ピペリジル、トリアゾリル、低級アルコキシ(低級)アルコキシ、ヒドロキシ(低級)アルキル、低級アルキルピペラジニル、フェニルおよびカルボキシからなる群より選ばれる適当な置換基を有していてもよく;R5は水素、イミダゾリル、フェニル、ニトロフェニル、フェニル(低級)アルキル、エステル化されていてもよいカルボキシまたは式(式中、R7およびR8は同一または異なって、それぞれ、水素、フェニル、フェニル(低級)アルキル、低級アルキルまたは低級アルコキシである)で表される基であり;またはR4およびR5は一緒になって式 -CH=CH-CH=CH-で表される基を形成し;Yは式(式中、R3は水素または式 -(CH2)n-R6(式中、R6は保護されていてもよい水酸基;アシル;カルボキシ;アシルアミノ;低級アルコキシ;フェニル(低級)アルコキシ;低級アルキルチオ;低級アルコキシ、ハロゲン、アミノ、アシルアミノ、ジアシルアミノおよびニトロからなる群より選ばれる適当な置換基を有していてもよいフェニル;低級アルコキシおよびハロゲンからなる群より選ばれる適当な置換基を有していてもよいピリジル;ピラジニル;ピリミジニル;フリル;イミダゾリル;ナフチル:N-(低級)アルキルインドリル;または3,4-メチレンジオキシフェニルであり、nは0から3の整数である)で表される基である)で表される基または式(式中、R11はフェニル、フェノキシまたはフェニル(低級)アルコキシである)で表される基であり;またはR2およびR3は一緒になって式で表される基を形成し;mは0または1であり;XはSまたはNR9である(式中、R9は水素、低級アルキル、シクロ(低級)アルキルまたは式(式中、R10は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシである)で表される基である)〕で表される化合物、またはその医薬的に許容される塩[但し、式〔式中、R1'はインドリルまたはベンゾフラニルであり;R2'は水素、低級アルキルチオ(低級)アルキルまたは式(式中、R5'は水素、低級アルコキシまたはハロゲンである)で表される基であり;R3'は水素、キノリル、または低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオおよびハロゲンからなる群より選ばれる適当な置換基を有していてもよいフェニルであり;R4'は水素またはエステル化されていてもよいカルボキシであり;およびX’はSまたはNR6'である(式中、R6'は水素、低級アルキルまたは式(式中、R7'は低級アルキルまたは低級アルコキシである)で表される基である)〕で表される化合物、およびその医薬的に許容される塩を除く]。

IPC (43件)：

C07D233/64 105 ,  A61K 31/4164 ,  A61K 31/4178 ,  A61K 31/422 ,  A61K 31/423 ,  A61K 31/427 ,  A61K 31/4439 ,  A61K 31/4545 ,  A61K 31/4709 ,  A61K 31/4725 ,  A61K 31/498 ,  A61K 31/506 ,  A61K 31/5377 ,  A61P 1/04 ,  A61P 1/16 ,  A61P 3/10 ,  A61P 9/00 ,  A61P 9/10 ,  A61P 11/00 ,  A61P 11/06 ,  A61P 13/12 ,  A61P 17/00 ,  A61P 19/02 ,  A61P 19/06 ,  A61P 19/10 ,  A61P 25/00 ,  A61P 25/04 ,  A61P 25/28 ,  A61P 27/00 ,  A61P 29/00 ,  A61P 29/00 101 ,  A61P 35/04 ,  A61P 43/00 ,  C07D233/90 ,  C07D401/06 ,  C07D401/14 ,  C07D403/12 ,  C07D403/14 ,  C07D405/12 ,  C07D405/14 ,  C07D409/12 ,  C07D413/12 ,  C07D417/12

FI (44件)：

C07D233/64 105 ,  A61K 31/4164 ,  A61K 31/4178 ,  A61K 31/422 ,  A61K 31/423 ,  A61K 31/427 ,  A61K 31/4439 ,  A61K 31/4545 ,  A61K 31/4709 ,  A61K 31/4725 ,  A61K 31/498 ,  A61K 31/506 ,  A61K 31/5377 ,  A61P 1/04 ,  A61P 1/16 ,  A61P 3/10 ,  A61P 9/00 ,  A61P 9/10 ,  A61P 11/00 ,  A61P 11/06 ,  A61P 13/12 ,  A61P 17/00 ,  A61P 19/02 ,  A61P 19/06 ,  A61P 19/10 ,  A61P 25/00 ,  A61P 25/04 ,  A61P 25/28 ,  A61P 27/00 ,  A61P 29/00 ,  A61P 29/00 101 ,  A61P 35/04 ,  A61P 43/00 ,  C07D233/90 A ,  C07D233/90 C ,  C07D401/06 ,  C07D401/14 ,  C07D403/12 ,  C07D403/14 ,  C07D405/12 ,  C07D405/14 ,  C07D409/12 ,  C07D413/12 ,  C07D417/12