特許

J-GLOBAL ID：200903083651026618

露光装置

発明者： 白数 廣 ,  佐伯 和明
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-015293
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228382
出願日： 2003年01月23日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】支持構造体の歪みによる露光処理への影響を抑え、基板の大型化に対応する場合にも、精度よく露光処理を行なうことができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置10は、マスクステージMST及び基板ステージPSTの少なくとも一方を支持する支持構造体12と、支持構造体12に対して投影光学系PLを所定の位置関係となるように支持する複数の支持点を有しかつ該複数の支持点が支持構造体12と投影光学系PLとの少なくとも一方に対して移動可能である支持部13と、マスクステージMST及び基板ステージPSTの少なくとも一方の位置情報を計測する計測装置PSX、PX、PXTと、計測装置PSX、PX、PXTの計測結果に基づいて、マスクステージMST及び基板ステージPSTの少なくとも一方を駆動する駆動装置14,16とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

マスクを保持するマスクステージと、基板を保持する基板ステージと、前記マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系とを備える露光装置であって、 前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方を支持する支持構造体と、 前記支持構造体に対して前記投影光学系を所定の位置関係となるように支持する複数の支持点を有し、かつ該複数の支持点が前記支持構造体と前記投影光学系との少なくとも一方に対して移動可能である支持部と、 前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方の位置情報を計測する計測装置と、 前記計測装置の計測結果に基づいて、前記マスクステージ及び前記基板ステージの少なくとも一方を駆動する駆動装置とを備えることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 516B ,  G01B11/00 G ,  G03F7/20 521

Fターム (20件)：

2F065AA03 ,  2F065AA37 ,  2F065AA39 ,  2F065CC00 ,  2F065FF51 ,  2F065FF66 ,  2F065FF67 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065LL12 ,  2F065NN20 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ42 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC06 ,  5F046CC16