特許
J-GLOBAL ID：200903083651781033
荷電粒子線照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-106252
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306331
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 集束レンズに追加して静電レンズを設けた構成であっても、静電レンズの印加電圧を変化させる毎に非点収差補正器の補正値を調整する必要がない荷電粒子線照射装置を提供する。【構成】 集束レンズ4と、集束レンズ4とは別の静電レンズ6と、非点収差補正器8と、を備えた荷電粒子線照射装置において、静電レンズ6の印加電圧と、非点収差が許容範囲に収まるときの非点収差補正器8の補正値とを対応付ける規則を記憶したメモリ15aと、装置の特定の使用条件に対応して非点収差補正器8の補正値が設定された状態から静電レンズ6の印加電圧が変更されたときメモリ15aが記憶する規則に従って変更後の印加電圧に対応する非点収差補正器8の補正値を特定し、その特定された値に非点収差補正器8の補正値を設定する制御装置15とを設ける。
請求項（抜粋）：
荷電粒子線に集束作用を与える集束レンズと、前記集束レンズとは別に設けられ、印加電圧に応じた電場を前記荷電粒子線の軌道上に生じさせる静電レンズと、非点収差補正器と、を備えた荷電粒子線照射装置において、装置の特定の使用条件に対応して前記非点収差補正器の補正値が設定された状態から前記静電レンズの印加電圧が変更されたとき、変更後の印加電圧に基づいて前記非点収差補正器の前記補正値を変更する補正値制御手段を設けたことを特徴とする荷電粒子線照射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 37/21 B
, H01J 37/28 Z
