特許

J-GLOBAL ID：200903083656451660

エンボス化粧材

発明者： 柿沼 良明
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-210532
公開番号（公開出願番号）：特開2000-038000
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
要約：

【要約】【課題】 基材表面にエンボス加工で賦型される凹陥部の深度が実際の深度より深く感じられるような目視効果を奏するエンボス化粧材を提供する。【解決手段】 基材表面にエンボス成形される複数の凹陥部Fの底面を、微細な凹凸形状を変えることによって、少なくとも2種以上の互いに異なる所定の光沢を示す複数の領域R1,R2---Rnに区劃し、隣接する前記領域同志の境界Cで光沢を非連続的に変化させる。

請求項（抜粋）：

基材表面に複数の凹陥部を有するエンボス化粧材において、前記凹陥部の底面が、微細な凹凸形状を変えることによって、少なくとも2種以上の互いに異なる所定の光沢を示す領域に区劃され、隣接する前記領域同志の境界で光沢が異なることを特徴とするエンボス化粧材。

IPC (4件)：

B44D 5/00 ,  B44F 9/02 ,  E04C 2/30 ,  E04F 13/18

FI (4件)：

B44D 5/00 ,  B44F 9/02 ,  E04C 2/30 A ,  E04F 13/18 C

Fターム (41件)：

2E110AA57 ,  2E110AA70 ,  2E110AB03 ,  2E110AB04 ,  2E110AB05 ,  2E110AB23 ,  2E110AB46 ,  2E110BA02 ,  2E110BA12 ,  2E110BB22 ,  2E110BB23 ,  2E110DA06 ,  2E110DC21 ,  2E110EA05 ,  2E110EA09 ,  2E110GA03W ,  2E110GA04W ,  2E110GA05W ,  2E110GA23W ,  2E110GA32W ,  2E110GA33W ,  2E110GA33X ,  2E110GA37X ,  2E110GB43W ,  2E110GB44W ,  2E110GB46W ,  2E110GB49W ,  2E110GB52W ,  2E110GB54W ,  2E110GB62W ,  2E110GB63W ,  2E162CC01 ,  2E162CC06 ,  2E162CD04 ,  2E162CD06 ,  2E162CD07 ,  2E162CD09 ,  2E162CD10 ,  2E162CE10 ,  2E162EA18 ,  2E162FD04