特許

J-GLOBAL ID：200903083659050526

ステンレス鋼の不動態膜形成方法及びステンレス鋼

発明者： 大見 忠弘 ,  中村 雅一
出願人/特許権者： 大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-212592
公開番号（公開出願番号）：特開平10-204526
出願日： 1991年07月30日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：

【要約】【目的】 不動態膜の超平坦化並びに緻密化を達成し、脱ガス特性や耐食性に優れた不動態膜の形成方法を提供することを目的とする。【構成】 ステンレス鋼の表面を電解研磨処理した後、酸化性雰囲気ガス中で酸化処理し、続いて水素ガスにより表面の鉄酸化物を還元除去することを特徴とするステンレス鋼不動態膜形成方法。

請求項（抜粋）：

ステンレス鋼の表面を電解研磨処理した後、酸化性雰囲気ガス中で酸化処理し、続いて水素ガスにより表面の鉄酸化物を還元除去することを特徴とするステンレス鋼不動態膜形成方法。

IPC (4件)：

C21D 1/76 ,  C23C 8/02 ,  C23C 8/14 ,  C23C 8/80

FI (5件)：

C21D 1/76 F ,  C21D 1/76 G ,  C23C 8/02 ,  C23C 8/14 ,  C23C 8/80