自己難燃性レジスト材料及び絶縁材料

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：目次誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-083837
公開番号（公開出願番号）：特開2002-372786
出願日： 2002年03月25日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】低誘電率でかつ自己難燃性を有するレジスト材料及び絶縁材料を得る。【解決手段】 (A)有機溶剤に可溶な重量平均分子量10000以上のポリシランと、(B)光ラジカル発生剤及び酸化剤と、(C)以下の一般式(1)等で示される構造のシリコーン化合物と、【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、炭素数1〜10のハロゲンまたはグリシジル基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12のハロゲンで置換されていてもよい芳香族炭化水素基、炭素数1〜8のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、互いに同一でも異なっていてもよいが、一分子中には少なくとも2つの上記アルコキシ基が含まれている。m及びnは整数であり、m+n≧1を満たすものである。)(D)有機溶剤とを含む感光性樹脂組成物からなることを特徴としている。

請求項（抜粋）：

(A)有機溶剤に可溶な重量平均分子量10000以上のポリシランと、(B)光ラジカル発生剤及び酸化剤と、(C)以下の一般式(1)または(2)で示される構造のシリコーン化合物と、【化1】(式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、炭素数1〜10のハロゲンまたはグリシジル基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12のハロゲンで置換されていてもよい芳香族炭化水素基、炭素数1〜8のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、互いに同一でも異なっていてもよいが、一分子中には少なくとも2つの上記アルコキシ基が含まれている。m及びnは整数であり、m+n≧1を満たすものである。)【化2】(式中、R1〜R12は、炭素数1〜10のハロゲンまたはグリシジル基で置換されていてもよい脂肪族炭化水素基、炭素数6〜12のハロゲンで置換されていてもよい芳香族炭化水素基、炭素数1〜8のアルコキシ基からなる群から選択される基であり、互いに同一でも異なっていてもよいが、一分子中には少なくとも2つの上記アルコキシ基が含まれている。a、b、c及びdは0を含む整数であり、a+b+c+d≧1を満たすものである。)(D)有機溶剤とを含む感光性樹脂組成物からなることを特徴とする自己難燃性レジスト材料。

IPC (7件)：

G03F 7/075 511 , G03F 7/075 521 , G03F 7/004 503 , G03F 7/032 501 , G03F 7/40 501 , H01B 3/46 , H05K 3/28

FI (7件)：

G03F 7/075 511 , G03F 7/075 521 , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/032 501 , G03F 7/40 501 , H01B 3/46 E , H05K 3/28 D

Fターム (30件)：

2H025AA00 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE08 , 2H025BF30 , 2H025CB30 , 2H025CB33 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA29 , 2H025FA39 , 2H025FA43 , 2H096AA26 , 2H096BA11 , 2H096EA02 , 2H096HA01 , 2H096HA27 , 5E314AA27 , 5E314AA40 , 5E314FF01 , 5E314GG08 , 5G305AA11 , 5G305AB10 , 5G305AB25 , 5G305BA09 , 5G305CA26 , 5G305CB26 , 5G305CD12 , 5G305CD20

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