特許
J-GLOBAL ID:200903083664041438
半導体装置およびその作製方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-218156
公開番号(公開出願番号):特開平7-058338
出願日: 1993年08月10日
公開日(公表日): 1995年03月03日
要約:
【要約】【目的】 アクティブマトリックス型の液晶表示装置において、周辺回路部分と画素部分とに、それぞれ適したTFTを配置する。【構成】 アクティブマトリックス型の液晶表示装置において、周辺回路部分には、高移動度を有し、多くのオン電流を流すことのできるTFTを配置する。また画素部分には、オフ電流の小さいTFTを配置する。こような特性の異なるTFTを基板に平行な方向に結晶成長した結晶性珪素膜を利用して構成する。即ち、結晶成長した方向とキャリアの移動する方向との角度をそれぞれ異ならせることで、キャリアが移動する際に受ける抵抗を制御し、TFTの特性を決定する。例えば、結晶成長方向とキャリアの移動する方向とを合わせることで、キャリアに高移動度を有せしめることができる。また、結晶成長方向とキャリアの移動する方向とを垂直にすることで、オフ電流を下げる構成とすることができる。
請求項(抜粋):
基板上に基板表面に平行に結晶成長した結晶性珪素膜を有し、前記結晶性珪素膜を利用して薄膜トランジスタが多数設けられており、前記多数の薄膜トランジスタの一部において、前記結晶性珪素膜中のキャリアの移動する方向と結晶成長方向とが第1の特定の角度を有するように構成され、前記多数の薄膜トランジスタの他の一部において、前記結晶性珪素膜中のキャリアの移動する方向と結晶成長方向とが第1の特定の角度とは異なる第2の特定の角度を有するように構成され、ていることを特徴とする半導体装置。
IPC (3件):
H01L 29/786
, G02F 1/136 500
, H01L 21/336
FI (2件):
H01L 29/78 311 A
, H01L 29/78 311 Y
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