特許

J-GLOBAL ID：200903083690074085

シリコンネットワークポリマーの製造方法

発明者： 庄野 達哉 ,  柏村 成史 ,  西田 亮一 ,  川崎 真一
出願人/特許権者： 庄野 達哉 ,  大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-051816
公開番号（公開出願番号）：特開平5-247217
出願日： 1992年03月10日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】【目的】重合度の高いシリコンネットワークポリマーを高収率で製造しうる新規な方法を提供することを主な目的とする。【構成】ハロシランを電極還元するに際し、原料の初期濃度を1mol/l以上とし、且つ反応の進行とともに電流密度が初期値の1/2未満となった時点で非プロトン性溶媒を添加して通電を行なうことにより、シリコンネットワークポリマーを形成させる。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】(式中、Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基またはシリル基を表し、Xは、ハロゲン原子を表す。)で示されるハロシランを電極還元するに際し、原料の初期濃度を1mol/l以上とし、且つ反応の進行とともに電流密度が初期値の1/2未満となった時点で非プロトン性溶媒を添加して通電を行なうことにより、一般式【化2】(式中、Rは、出発原料に対応して上記に同じである。また、nは、100〜10000である。)で示されるシリコンネットワークポリマーを形成させることを特徴とする方法。