特許
J-GLOBAL ID:200903083711008827

水滴滑落性に優れた膜形成用表面処理材および表面処理膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 的場 基憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-072412
公開番号(公開出願番号):特開2001-259509
出願日: 2000年03月15日
公開日(公表日): 2001年09月25日
要約:
【要約】【課題】 優れた水滴滑落性を備え、耐久性にも優れた膜形成用表面処理材およびこのような表面処理膜の形成方法を提供する。【解決手段】 第1層として、2種類のイソシアネートシラン、すなわちテトライソシアネートシランと、1ないし3個のアルキル基がSiに結合しているイソシアネートシランとを用いてシリカ膜を形成し、このシリカ膜上に末端に加水分解性官能基を備えたシリコーン化合物やその加水分解物を含む塗布液を塗布して第2層を形成し、水滴滑落性および耐久性耐に優れた表面処理膜を得る。
請求項(抜粋):
基材表面への第1層を構成しかつSi(NCO)4 とRaSi(NCO)4-a(RはCH3 またはC2 H5 、aは1〜3)の2成分を、これらSi(NCO)4 とRaSi(NCO)4-aの重量比が99.8:0.2〜92.0:8.0となる量で含むとともに希釈溶媒を含有する塗布液と、前記第1層の上で第2層を構成しかつ末端に加水分解性基を持つシリコーン化合物および/または該シリコーン化合物の加水分解物と希釈溶媒を含む塗布液とをそなえたことを特徴とする水滴滑落性に優れた膜形成用表面処理材。
IPC (9件):
B05D 1/36 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/00 ,  B05D 7/24 302 ,  B05D 7/24 ,  C03C 17/34 ,  C09D 5/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/08
FI (10件):
B05D 1/36 Z ,  B05D 5/00 G ,  B05D 5/00 Z ,  B05D 7/00 E ,  B05D 7/24 302 B ,  B05D 7/24 302 Y ,  C03C 17/34 A ,  C09D 5/00 Z ,  C09D183/04 ,  C09D183/08
Fターム (24件):
4D075AE03 ,  4D075CA36 ,  4D075CA39 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC08 ,  4D075DC13 ,  4D075EB02 ,  4D075EB43 ,  4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059FA05 ,  4G059FA22 ,  4G059FB05 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA11 ,  4J038DL031 ,  4J038DL071 ,  4J038DL081 ,  4J038KA06 ,  4J038NA07 ,  4J038PB07 ,  4J038PC03

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