特許
J-GLOBAL ID：200903083713647118
パターン形成方法、パターン形成装置及びマスク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-109343
公開番号（公開出願番号）：特開平6-325994
出願日： 1993年05月11日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】ポジ型レジストを用いるに適した微細なパターン群と、ネガ型レジストを用いるに適したパターン群とが混在したパターンを、マスクやレジストを交換することなく精度よく形成できるパターン形成方法を提供すること。【構成】第1及び第2の光源1、4から2種類の異なる照明光、例えば、互いに波長が異なる照明光でレティクル8を照射する。レティクル8は、透過した異なる照明光に、それぞれ互いに異なる光の分布を与える。ウェーハ11上に設けられた感放射線材料膜は、異なる照明光の照射により、所望の現像液に対して、それぞれ異なる溶解速度を示すように変化してパターンが形成される。
請求項（抜粋）：
所望のパターンを有するマスクを照射し、該パターンを投影光学系を介してウェーハ上に転写するパターン形成方法において、上記照射は、少なくとも2種類の異なる照明光で同時又は順次に行ない、上記パターンは、上記マスクを透過又は反射した該異なる照明光に、それぞれ互いに異なる光の分布を与え、上記ウェーハ上に設けられた感放射線材料膜は、該異なる照明光の照射により、所望の現像液に対して、それぞれ異なる溶解速度を示すように変化してパターンが形成されることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
