特許
J-GLOBAL ID：200903083717208402
加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-010348
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203659
出願日： 1995年01月26日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：
【要約】【構成】チャンバ1と真空排気系2とプレートヒータ5を備え、チャンバ1内に設置されたプレートヒータ5上の被処理物を、輻射伝導加熱,伝達加熱、及び伝導加熱を可能とする加熱装置。【効果】過熱源が一つである一台の加熱装置で、三通りの加熱方式が選択可能であり、又、複合的な加熱も出来るため被処理物の特性に合った加熱処理が可能である。
請求項（抜粋）：
チャンバと真空排気系とガス導入系とプレートヒータとを含み、上記チャンバ内に配置された上記プレートヒータ上の被処理物を、輻射加熱,伝達加熱、及び伝導加熱を可能とすることを特徴とする加熱装置。
IPC (3件)：
H05B 3/00 330
, B23K 20/00 340
, H01L 27/12
