特許

J-GLOBAL ID：200903083718679280

有機高分子膜の形成方法

発明者： 吉野 信幸
出願人/特許権者： シチズン時計株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-329667
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140750
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】【目的】気相合成法によるパリレン膜の形成方法において種々の基材に対する密着性を向上させるための被覆方法を提供すること。【構成】炭化水素ガスあるいは有機ケイ素化合物を主成分とする雰囲気中でのプラズマ重合法によって基材の表面にプラズマ重合膜を被覆し、アルゴンガスあるいは酸素ガスを含む雰囲気中におけるプラズマ処理によりこのプラズマ重合膜表面に存在する汚染物の除去及び水酸基やカルボニル基を分解後、気相合成法によってパリレン膜を形成する。【効果】種々の基材上にパリレン膜を密着性良く形成することが可能となり、応用面の拡大が可能となる。

請求項（抜粋）：

炭化水素ガスあるいは有機ケイ素化合物を主成分とする雰囲気中におけるプラズマ重合によって基材の表面にプラズマ重合膜を形成する工程と、酸素ガスあるいはアルゴンガスを含む雰囲気中におけるプラズマ処理によってプラズマ重合膜表面を処理する工程と、気相合成法によってパリレン膜を形成する工程とからなる有機高分子膜の形成方法。