特許

J-GLOBAL ID：200903083729825210

露光装置及びその製造方法、露光方法、並びにデバイス及びその製造方法

発明者： 馬込 伸貴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1998005987
公開番号（公開出願番号）：WO1999-034418
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 1999年07月08日
要約：

【要約】基板(W)に電子ビーム(EB)を照射して基板Wの2次元領域(XY2次元領域)を露光するために、基板面に平行な面に沿って移動する電子ビーム鏡筒(16)を備えている。このため、例えば基板保持装置(WST)が固定のままであっても電子ビーム鏡筒(16)をXY2次元移動させることにより、基板(W)の2次元領域を露光することが可能になる。従って、電子ビーム鏡筒(16)が固定で基板保持装置(WST)が2次元移動していた従来の露光装置に比べて、装置のフットプリントを約1/4に低減することが可能になる。

請求項（抜粋）：

基板を保持する基板保持装置と; 前記基板に荷電粒子線を照射して前記基板を露光するために、前記基板面に平行な面内で移動する荷電粒子線鏡筒とを備える露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 ,  G03F 7/20 504