特許
J-GLOBAL ID:200903083743046453
微粒多孔質シリカ
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-326536
公開番号(公開出願番号):特開2008-137859
出願日: 2006年12月04日
公開日(公表日): 2008年06月19日
要約:
【課題】メソ孔領域に高規則性の細孔を有す多孔質シリカは、触媒担体、分離剤等多様な分野での応用が検討されているが、凝集力が強く粒子径が大きくなってしまい使用用途が制限される問題があった。本発明は、メソ孔領域に高規則性の細孔を有し、溶媒中にサブミクロンオーダーに分散する多孔質シリカを提供することを目的とする【解決手段】 d100:d110:d200=100:5.0〜20.0:5.0〜10.0で表され、平均粒子径が50〜500nmであることを特徴とする多孔質シリカを提供することにより上記課題を解決する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
X線回折パターンにおいて、ピーク強度がd100:d110:d200=100:5.0〜20.0:5.0〜15.0の比率で表され、平均粒子径が50〜500nmであることを特徴とする多孔質シリカ。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (16件):
4G072AA25
, 4G072BB07
, 4G072BB15
, 4G072DD05
, 4G072DD06
, 4G072GG01
, 4G072HH30
, 4G072JJ13
, 4G072JJ23
, 4G072MM01
, 4G072RR12
, 4G072TT01
, 4G072TT30
, 4G072UU11
, 4G072UU15
, 4G072UU17
引用特許:
引用文献:
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