特許
J-GLOBAL ID：200903083746240056
回転型反応炉
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-159290
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013340
出願日： 1991年07月01日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 反応室内に位置する被処理物に対する付着異物を確実に減少させることが可能な回転型反応炉を提供する。【構成】 ベルジャ1の一端を閉止して反応室R(圧P0)を構成する蓋体2に、回転機構室3が設けられ、反応室R内に位置され、ウェハ6が装填されたバレル5を同軸に支持する回転軸4の一端は、回転機構室3内に懸垂支持されている。回転機構室3には、回転軸4の端部に臨む位置に開設された第1ガス供給路8から第1パージガスG1(圧P1)が供給され、回転軸4の側面に臨む位置に開設された第2ガス供給路9から第2パージガスG2(圧P2)が供給される。各圧の関係は、P2>P1>P0となるように設定される。回転機構室3の内部における回転軸4の側面部には、邪魔板10が配置されている。
請求項（抜粋）：
被処理物を保持する回転台と、この回転台が収容される反応室を構成する炉体と、前記回転台を支持する回転軸と、この回転軸の前記炉体に対する接続部が収容される回転機構室とからなり、前記反応室内に所望の反応ガスを供給して前記被処理物に対する所望の処理を行う回転型反応炉であって、前記回転軸の内部軸方向に穿設された排気路と、前記回転機構室の内部に位置する前記回転軸の端部に第1パージガスを供給する第1ガス供給手段と、前記回転機構室の内部における前記回転軸の側面に第2パージガスを供給する第2ガス供給手段とを備え、前記回転機構室内の前記第1パージガスの圧P1と前記第2パージガスの圧P2と、前記反応室内の前記反応ガスの圧P0との関係が、P0<P1<P2となるようにしたことを特徴とする回転型反応炉。
IPC (2件)：
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