特許

J-GLOBAL ID：200903083758956510

ポリ(m-ヒドロキシスチレン)及びその製造方法

発明者： 渡辺 修 ,  山田 素行
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-216359
公開番号（公開出願番号）：特開平6-041222
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：

【要約】【目的】高解像度及び高現像度のレジスト材料用ポリマーとして優れると共に、ポリマーブレンド剤等にも好適な、単分散性ポリ(m-ヒドロキシスチレン)、及びその製造方法を提供すること。【構成】下記化1で表される繰り返し単位を有する単分散性ポリ(m-ヒドロキシスチレン)及びその製造方法。【化1】

請求項（抜粋）：

下記化1で表される繰り返し単位を有する単分散性ポリ(m-ヒドロキシスチレン)。【化1】

IPC (5件)：

C08F 8/12 MGF ,  C08F 12/24 MJY ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭49-130992
  
• 特開昭59-199705
  
• 特開平4-053807
  
• 特開昭62-115440