プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宮田金雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-340682
公開番号（公開出願番号）：特開平8-288096
出願日： 1995年12月27日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【課題】大面積にわたって均一なプラズマを形成でき、大口径の試料を均一に処理できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】被処理物2が載置される第一の電極3に対向配置された第二の電極4の大気側に周方向に同一の極性を有するリング状の永久磁石11を同心円状に複数配置する。径方向に隣合う磁石11の極性が逆になるように配置する。

請求項（抜粋）：

被処理物が載置される第一の電極、この第一の電極に対向配置された第二の電極、及びこの第二の電極の上記第一の電極と対向する面の背面側に配設された磁石を備えたプラズマ処理装置において、上記磁石を周方向に同一の極性を有するリング状で、かつ径方向に隣合う極性が逆になるように同心円状に配置したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/3065 , C23C 14/35

FI (5件)：

H05H 1/46 M , C23C 16/50 , C23F 4/00 G , C23C 14/35 Z , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

マイクロ波放電反応装置及び電極装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平2-400904 出願人：佐藤徳芳, 飯塚哲, 日電アネルバ株式会社
プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-253776 出願人：日新電機株式会社
特開昭63-131520

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