特許
J-GLOBAL ID：200903083768065738
研磨剤リサイクル方法及び同システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
天野 正景 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-327667
公開番号（公開出願番号）：特開2003-136406
出願日： 2001年10月25日
公開日（公表日）： 2003年05月14日
要約：
【要約】【課題】 研磨剤をリサイクルさせても安定した研磨性能を維持することができる研磨剤リサイクル方法を提供することを課題とする。【解決手段】 研磨剤リサイクルシステム1は、溶媒、研磨砥粒、及び、複数の研磨性能調整剤を貯留するための少なくとも2つの薬剤供給ユニット41・・、研磨剤を研磨装置に供給し、また、回収した研磨剤を容れる研磨剤調整供給槽2、研磨剤調整供給槽2内の研磨剤の酸化還元電位、電気伝導度、砥粒濃度を計測する複数のセンサー31・・、薬剤供給ユニット41・・から貯留された薬剤を研磨剤調整供給槽2に供給するポンプ51・・、及びセンサー31・・の計測値に基づき酸化還元電位、電気伝導度及び砥粒濃度を予め定められた範囲内に入るように、ポンプ51・・から研磨剤調整供給槽2に供給される薬剤の量を制御するコントロールユニット6を備える。
請求項（抜粋）：
研磨剤の酸化還元電位、研磨剤の電気伝導度、及び、研磨剤の砥粒濃度の内、少なくとも2つを計測し、溶媒、研磨砥粒、及び、研磨性能調整剤の内の少なくとも2つを上記計測結果に応じて研磨剤に供給することによって、上記酸化還元電位、上記電気伝導度及び上記砥粒濃度の内の少なくとも2つを予め定められた範囲内に管理し、これにより、研磨前と実質的に同一の性能を維持することを特徴とする研磨剤リサイクル方法。
IPC (3件)：
B24B 57/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304
B24B 57/02
, H01L 21/304 622 E
, H01L 21/304 622 R
