特許
J-GLOBAL ID：200903083771677310
積層薄膜とその製造方法ならびにそれを用いた全固体リチウムイオン二次電池
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-354088
公開番号（公開出願番号）：特開2004-183078
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】積層薄膜において、イオンビームでイオン照射し薄膜を成膜する場合、作製した薄膜が帯電し、膜破壊や膜内部で電気的中性を保つために必要のない酸化還元反応が起こり、膜物性が劣化すること。【解決手段】陽イオンと陰イオンとを同時に照射するまたは陽イオンと電子とを同時に照射し、帯電を抑制しながら薄膜を成膜する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基板上に形成した積層薄膜であり、前記薄膜は少なくとも材料源と陽イオンと陰イオンとを同時に照射するまたは前記薄膜は少なくとも材料源と陽イオンと電子とを同時に照射することを特徴とする積層薄膜。
IPC (7件)：
C23C14/48
, H01L37/02
, H01L41/187
, H01L41/24
, H01M10/36
, H03H3/02
, H03H3/08
C23C14/48 D
, H01L37/02
, H01M10/36 A
, H03H3/02 B
, H03H3/08
, H01L41/22 A
, H01L41/18 101C
, H01L41/18 101B
, H01G4/06 102
4K029AA06
, 4K029BA58
, 4K029CA09
, 4K029DB05
, 4K029DB18
, 5E082AB03
, 5E082BB07
, 5E082DD11
, 5E082EE05
, 5E082EE27
, 5E082EE37
, 5E082FF05
, 5E082FG03
, 5E082MM09
, 5E082MM23
, 5H029AK03
, 5H029AL12
, 5H029AM12
, 5H029BJ04
, 5H029CJ16
, 5H029DJ09
, 5H029HJ16
, 5J097AA28
, 5J097HA03
, 5J097KK09
, 5J108MM08
