特許

J-GLOBAL ID：200903083777101526

光学用積層シートの製造法

発明者： 市川 林次郎 ,  古森 寛 ,  坪井 治恭
出願人/特許権者： 藤森工業株式会社
代理人 (1件)： 大石 征郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-244764
公開番号（公開出願番号）：特開平5-057857
出願日： 1991年08月29日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【目的】 表面平滑性の極めてすぐれた光学用積層シート、殊に液晶表示パネル製造用の電極基板に適した光学用積層シートを工業上有利に製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 表面粗度 0.004μm の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(3) 上に架橋性樹脂硬化物層(2) 形成用の樹脂溶液を流延した後、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重量の5〜100重量%となるまで乾燥を行う。ついでこの積層体の半乾燥被膜(2a)側を下層用樹脂層(1) に重ね合わせて圧着することにより半乾燥被膜(2a)を下層用樹脂層(1) に転写した後、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(3) を剥離除去し、さらに乾燥硬化を行って樹脂層(2) となす。この樹脂層(2) の自由面の表面平滑度は、光の干渉を利用した表面粗さ計による測定で 0.1μm 以下となる。

請求項（抜粋）：

表面粗度0.15μm 以下の二軸延伸プラスチックスシート(3) 上に樹脂層(2) 形成用の樹脂溶液を流延した後、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重量の5〜100重量%となるまで乾燥を行い、ついでこの積層体の半乾燥被膜(2a)側を下層用樹脂層(1) に重ね合わせて圧着することにより半乾燥被膜(2a)を下層用樹脂層(1) に転写した後、二軸延伸プラスチックスシート(3) を剥離除去し、さらにその剥離の前または後に加熱を行い、転写した半乾燥被膜(2a)を乾燥硬化して樹脂層(2) となすことを特徴とする光学用積層シートの製造法。

IPC (8件)：

B32B 31/00 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/06 ,  B32B 27/00 ,  B44C 1/165 ,  C08L 73/00 LQQ ,  B44C 1/175 ,  G02F 1/1335 510