特許

J-GLOBAL ID：200903083782856306

シャドウマスクの製造方法およびその装置

発明者： 蒲生 保則 ,  木村 誠二 ,  小池 教雄 ,  小柳津 聡子
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160889
公開番号（公開出願番号）：特開2001-338574
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課題】 製造時に生じるむら不良を低減できるシャドウマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 長尺状の金属薄板Pにレジスト膜を形成する。マスクパターンを介してレジスト膜を露光して現像した後、金属薄板Pをノニオン系界面活性剤およびポリ燐酸系キレート剤を主成分とする水溶液Sで洗浄する。洗浄後の金属薄板Pを乾燥してバーニングした後、エッチングして透孔を形成する。マスクパターンを形成したレジスト膜への水滴残留に伴う乾燥後の水跡の発生を防止できる。製造時に生じるむら不良を低減できる。

請求項（抜粋）：

長尺状の金属薄板に感光膜を形成し、マスクパターンを介して前記感光膜を露光して現像し、この現像後の前記金属薄板をノニオン系界面活性剤およびポリ燐酸系キレート剤を主成分とする水溶液で洗浄し、この洗浄後の前記金属薄板を乾燥させてバーニングし、このバーニング後の前記金属薄板をエッチングして透孔を形成することを特徴とするシャドウマスクの製造方法。

IPC (3件)：

H01J 9/14 ,  C23F 1/00 ,  C23F 1/00 101

FI (4件)：

H01J 9/14 G ,  H01J 9/14 H ,  C23F 1/00 C ,  C23F 1/00 101

Fターム (10件)：

4K057WA09 ,  4K057WB02 ,  4K057WC01 ,  4K057WC10 ,  4K057WK01 ,  4K057WK10 ,  4K057WM05 ,  4K057WN03 ,  5C027HH07 ,  5C027HH10