特許
J-GLOBAL ID:200903083787711756
地下構造物,その構築方法及びシールド掘進機
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐野 弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-181602
公開番号(公開出願番号):特開2000-002096
出願日: 1998年06月12日
公開日(公表日): 2000年01月07日
要約:
【要約】【課題】止水及び地山の保持性が良好で信頼性が高く、しかも、施工の容易な地下構造物及びその構築方法を提供する。【解決手段】先行掘削形成された小断面シールドトンネル21,22から突設固定された連結部材26の連結板部26b,26bに、小断面シールドトンネル23,24が後行掘削形成されて外周面方向に連結される大断面シールドトンネル25である。先行する小断面シールドトンネル21,22に予め突設固定された連結板部26b,26b間にオーバーラップする位置に後行する小断面シールドトンネル23,24を掘削形成することのみで、連結板部26b,26bによって、隣接する小断面シールドトンネル21,23又は24及び22,23又は24間の外周面21c〜24c及び内周面21d〜24dが連結され、止水及び地山の保持性が良好で信頼性が高い大断面シールドトンネル25が形成される。
請求項(抜粋):
小断面シールドトンネルを複数設けて、該小断面シールドトンネルの隣接する端面間を連結して、大断面シールドトンネルを構成する地下構造物であって、前記隣接する端面を前記小断面シールドトンネル間を外周面に沿って連結することにより、前記大断面シールドトンネル内空間を略閉塞する連結板を、予め該小断面シールドトンネルの該端面から前記対向する隣接小断面シールドトンネル方向へ突設固定してなることを特徴とする地下構造物。
IPC (2件):
E21D 13/02
, E21D 9/06 301
FI (2件):
E21D 13/02
, E21D 9/06 301 Z
Fターム (9件):
2D054AA05
, 2D054AB05
, 2D054AC01
, 2D054AD19
, 2D054BA01
, 2D055BA01
, 2D055BB03
, 2D055DA11
, 2D055GC00
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