改良されたサセプタ

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-162486
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161802
出願日： 1994年07月14日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】基板処理チャンバ内での加工処理工程の間、基板を受け止め且つ支持するためのサセプタの設計。【構成】サセプタ40は前面即ち上面を含み、その中に基板受け止めポケット48が形成されている。そのポケットは、床47と一般的に直立した側面とを有する。外接溝54は、ポケットの床の中に形成されており、基板がポケットの中に受け止められた時、その溝が一般的に基板の周辺部を越えて存在するように寸法が決められている。直立した側面は、溝と共に、基板処理ガスが基板の下面に到達しないように抑制すべく作用する。又1同心円状溝がポケットの床に形成されている。基板がポケットに受け止められた時、それはその溝の頂部に乗り、そのことにより基板が乗っている表面積を低減するように働く。その結果として、処理工程の後、基板はポケットの床に固着することがなく、サセプタから損傷せずに持ち上げることができる。

請求項（抜粋）：

基板処理装置(substrate processingapparatus)内で基板を受け止めて支持するためのサセプタであって、その基板処理装置が、前記サセプタが置かれている処理チャンバ(processing chamber)と、基板処理ガス(substrate processing gas)が前記基板を横切って移動するように通過するガス入口(inlet)とガス出口(outlet)とを含み、さらに該サセプタが、(a)サセプタ受け止め表面(substrate receiving surface)と、(b)前記サセプタの表面でその周辺部(perimeter)に形成されたステップであって、前記サセプタが前記チャンバ内にあるとき、そのチャンバ内にあるサセプタ外接リング(susceptor circumscribing ring)の相互補完的ステップ表面(complemental stepped surface)とインターフェイス(interface with)しているステップと、(c)前記サセプタの前記ステップ表面に形成されており、前記インターフェイスしているステップ表面同士の間を移動する処理ガスの乱れを増すための手段であって、それによって、前記ガスが前記間を通過するのを抑制する、サセプタ。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (31件)

特開平4-233723
特開平4-233723
特開昭63-176474

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