プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木市郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-331085
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141287
出願日： 2000年10月30日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
要約：

【要約】【課題】載置台の温度分布を短時間にかつ高精度に制御することのできるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空処理室内にプラズマを生成するプラズマ生成手段と、半導体ウエハ等の被処理物10を載置するとともに内部に複数の冷媒流路2,3,4を備えた載置台1と、前記複数の冷媒流路を順次接続して形成した循環流路に冷媒を供給する第1の熱交換器5と、前記載置台の温度を制御する制御手段とを有するプラズマ処理装置において、前記制御手段は、前記載置台に形成した冷媒流路の出入り口間で熱授受を行う第2の熱交換器A,B,Cの熱交換量を制御して裁置台1の温度分布を制御する。

請求項（抜粋）：

真空処理室内にプラズマを生成するプラズマ生成手段と、半導体ウエハ等の被処理物を載置するとともに内部に複数の冷媒流路を備えた載置台と、前記複数の冷媒流路を順次接続して形成した循環流路に冷媒を供給する第1の熱交換器と、前記載置台の温度を制御する制御手段とを有するプラズマ処理装置において、前記制御手段は、前記載置台に形成した冷媒流路の出入り口間で熱授受を行う第2の熱交換器を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 , C23C 16/52

FI (3件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 E , C23C 16/52

Fターム (23件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA45 , 4G075AA63 , 4G075BC01 , 4G075BC06 , 4G075CA03 , 4G075CA47 , 4G075CA65 , 4G075DA02 , 4K030FA01 , 4K030HA11 , 4K030KA23 , 4K030KA26 , 4K030KA41 , 5F045AA08 , 5F045EJ03 , 5F045EJ08 , 5F045EJ09 , 5F045EJ10 , 5F045EK21 , 5F045EM05 , 5F045GB05

引用特許：

出願人引用 (1件)

試料台の温度制御方法及び装置と試料処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-258119 出願人：株式会社日立製作所, 日立笠戸エンジニアリング株式会社

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