特許
J-GLOBAL ID：200903083792042919
荷電粒子ビーム照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-253141
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106800
出願日： 1996年09月25日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：
【要約】【課題】 治療用の加速器システムとラジオアイソトープ製造用の加速器システムとの共用を図る。【解決手段】 連続ビームを発生するサイクロトロン2と、サイクロトロン2で発生した荷電粒子ビームを入射して出射するリング状のシンクロトロン(偏向電磁石1,静電偏向器3,出射用電磁石4,入射用偏向電磁石8,高周波電極9,出射用静電偏向器10,出射用偏向電磁石11,高周波加速空胴12などで構成される。)とを設ける。治療するときはシンクロトロンに入射された荷電粒子ビームを蓄積・加速してから出射し電磁石5で治療室6に導く。ラジオアイソトープを製造するときは、サイクロトロン2で発生したビームをシンクロトロンで輸送し(蓄積・加速は行わない)電磁石で製造室7に導く。
請求項（抜粋）：
連続ビームを発生する荷電粒子ビーム発生装置と、該荷電粒子ビーム発生装置で発生した荷電粒子ビームを入射して出射するシンクロトロンと、該シンクロトロンに入射された前記荷電粒子ビームを蓄積・加速してから出射する第1モードと前記シンクロトロンに入射された前記荷電粒子ビームを該シンクロトロンの一周以内に出射する第2モードとを切り替えて該シンクロトロンを制御する制御手段とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。
IPC (3件)：
H05H 13/04
, G21K 5/04
, H05H 7/12
H05H 13/04 Z
, G21K 5/04 A
, H05H 7/12
