特許

J-GLOBAL ID：200903083793264257

インクジェット式記録ヘッド、及びその製造方法

発明者： 岡沢 宣昭 ,  中 隆廣 ,  北原 強
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 木村 勝彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-306622
公開番号（公開出願番号）：特開平9-123448
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】 シリコン単結晶基板をスペーサ構成部材として高密度印刷に適した記録ヘッドを構成すること。【解決手段】 圧力発生室1を凹部としてシリコン単結晶基板2のハーフエッチングにより、また圧力発生室1とノズル開口5とを接続するノズル連通孔6を圧力発生室1よりも幅が狭い貫通孔として形成し、圧力発生室1の容積を可及的に小さくしつつ、他面側のノズル開口5とノズル連通孔6により接続する。

請求項（抜粋）：

シリコン単結晶基板の異方性エッチングにより圧力発生室、インク供給口及び共通のインク室が形成されたスペーサに、該スペーサの一方の面に前記圧力発生室に一致したピッチでノズル開口が穿設されたノズルプレートと、他方の面に前記圧力発生室を膨張収縮させる振動板とを設けたインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記圧力発生室が前記シリコン単結晶基板のハーフエッチングによる凹部として形成され、また前記圧力発生室と前記ノズル開口とを接続するノズル連通孔が前記シリコン単結晶基板のフルエッチングにより前記圧力発生室よりも幅が狭い貫通孔として形成され、さらに前記共通のインク室が前記シリコン単結晶基板のフルエッチングによる貫通孔として形成されているインクジェット式記録ヘッド。

IPC (3件)：

B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16

FI (2件)：

B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H

引用特許：

審査官引用 (4件)

• インクジェットヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-247117   出願人：セイコーエプソン株式会社
• インクジェットヘッド及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-210423   出願人：セイコーエプソン株式会社
• インクジェットヘッド及び記録方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-059171   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特開平3-121850