特許
J-GLOBAL ID：200903083795827020
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-217339
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045220
出願日： 1992年07月23日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：
【要約】【目的】 σ値が大きい複雑な照明光学系を使用することなく、高解像度で且つ深い焦点深度を得ると共に、レチクルが交換されても煩雑な調整を不要とする。【構成】 レチクルRの上に自己保持部材18を介してガラス基板17を載置し、ガラス基板17の裏面に回折格子パターンRGを形成する。回折格子パターンRGにより、照明光学系からの照明光ILを傾斜させてレチクルRに入射させ、レチクルRのパターンを投影光学系PLを介してウエハW上に露光する。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光により均一な照度でマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に結像して投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記マスクから前記照明光学系側に所定間隔だけ離して配置され、且つ前記照明光学系から前記マスクに対して照射される前記照明光の少なくとも一部の照明光の前記マスクに対する入射角を前記照明光学系の光軸に対して傾斜させる偏向部材と、前記偏向部材側に装着され、前記偏向部材と前記マスクとの間隔を前記所定の間隔に保つための自己保持用の固定部材とを設けた事を特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
