特許

J-GLOBAL ID：200903083800635959

汚水処理装置

発明者： 大屋 雅英
出願人/特許権者： 西原ネオ工業株式会社
代理人 (1件)： 佐野 惣一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-294502
公開番号（公開出願番号）：特開平10-118674
出願日： 1996年10月16日
公開日（公表日）： 1998年05月12日
要約：

【要約】【課題】 簡易な構成で自動的に散気の切り換えができる散気装置を備えた汚水処理装置の提供をする。【解決手段】 本発明の汚水処理装置1は、第1散気管17と第2散気管37とは一台のブロア27から送風される送風管が分岐された第1送気管32及び第2送気管34に接続されているとともに、前記第2散気管の水面からの深さが第1散気管よりも深い位置に配置する構成である。この構成により、通常は、第1散気管17からの散気により、第1処理槽7内で好気性処理を施す一方、ドレン管38から第2処理槽内の汚泥を引き抜くと、水位が低下して第2散気管37にかかる水圧が相対的に第1散気管17にかかる水圧よりも小さくなって、切り換え弁等を設けることなく簡単な構成で、散気を切り換えることができる。

請求項（抜粋）：

第1処理槽内に配置された第1散気管と、第1処理槽と区画された第2処理槽内に配置された第2散気管と、第2処理槽内の汚泥を引き抜くドレン管とを備える汚水処理装置において、第1散気管と第2散気管とは一台のブロアから送風される送風管が分岐された第1送気管及び第2送気管にそれぞれ接続されているとともに、第2散気管は水面からの深さが第1散気管よりも深い位置に配置されていることを特徴とする汚水処理装置。

IPC (3件)：

C02F 3/00 ZAB ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/08 ZAB

FI (3件)：

C02F 3/00 ZAB E ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/08 ZAB B