高周波誘導結合プラズマ分析装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：島田義勝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295030
公開番号（公開出願番号）：特開2000-123782
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】シールドに要求される各種特性を満たしたシールド板を提供すること、また「塩」の析出を抑えることができるプラズマトーチを提供すること。【解決手段】プラズマトーチ6では、誘導コイル9と、その誘導コイル9の周囲に形成される高周波磁界によって生成されるプラズマ8との間に位置するシールド板60dが、金などで作製されている。また、ガス化された試料を導入する内管6cの内壁62cを、先端に向かって、狭くなるようにテーパが付されている。

請求項（抜粋）：

プラズマトーチの周りにシールド板を介して配設された誘導コイルに高周波電力を供給してプラズマを発生させ、該プラズマを用いて試料の分析を行う高周波誘導結合プラズマ分析装置において、電気抵抗が小さい非酸化性の金属若しくはその合金で、前記シールド板が構成されていることを特徴とする高周波誘導結合プラズマ分析装置。

IPC (5件)：

H01J 49/10 , G01N 21/73 , G01N 27/62 , H05H 1/30 , H05H 1/42

FI (5件)：

H01J 49/10 , G01N 21/73 , G01N 27/62 G , H05H 1/30 , H05H 1/42

Fターム (13件)：

2G043AA01 , 2G043CA03 , 2G043DA05 , 2G043EA08 , 2G043GA11 , 2G043GB01 , 2G043GB05 , 2G043GB16 , 2G043GB17 , 2G043MA06 , 5C038GG09 , 5C038GH02 , 5C038GH05

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