特許
J-GLOBAL ID：200903083817875155
分子材料の処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-241499
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097523
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 有機材量の新規な処理方法を開発して、有機電子回路の設計と製造を容易にする。【構成】 単一波長(354nm)のレーザービーム照射による逐次励起あるいは仮想状態を介する多光子光分解法を利用して、絶縁材料であるジLiフタロシアニン(Li2 Pc)を半導体材料であるLiフタロシアニン(LiPc)に変換する。
請求項（抜粋）：
レーザービームによって誘導される、逐次光子吸収を介した分子材料の多光子光分解法を使用して、絶縁材料を伝導材料および半導体材料に変換する方法。
IPC (3件)：
H01L 39/24 ZAA
, H01L 21/90
, H01L 29/28
