特許
J-GLOBAL ID：200903083823854011
透過型ファイバグレーティングフィルタの製造方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-237812
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101322
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】 特性の良好な透過型ファイバグレーティングフィルタを製造し得る方法及びその装置を提供する。【構成】 ピッチが線形に変化するマスクパターン4aを有する位相シフトマスク4を光ファイバ5に密着させて固定し、マスクパターン4aの所定の波長に対応するピッチの部位Pのみを遮蔽板3で覆い、位相シフトマスク4を固定した光ファイバ5にその長さ方向に沿って紫外線レーザ光7を等速度で照射することにより、前記所定の波長、即ち透過させようとする波長に対応した部分が欠落したチャープグレーティング8を形成する。
請求項（抜粋）：
ピッチが線形に変化するマスクパターンを有する位相シフトマスクを光ファイバに密着させて固定し、該位相シフトマスクを固定した光ファイバにその長さ方向に沿って紫外線レーザ光を等速度で前記マスクパターンの所定の波長に対応するピッチの部位のみを除いて照射することを特徴とする透過型ファイバグレーティングの製造方法。
IPC (3件)：
G02B 6/16
, G02B 6/00 306
, G02B 6/10
