特許

J-GLOBAL ID：200903083832384087

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-161617
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012510
出願日： 2002年06月03日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を有し、感度、解像性、塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の基を少なくとも1個有する繰り返し単位を少なくとも1種有する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(Z)で表される基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を少なくとも1種有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F7/039 ,  C08F12/22 ,  C08F20/26 ,  C08F20/58 ,  C08F32/08 ,  H01L21/027

FI (6件)：

G03F7/039 601 ,  C08F12/22 ,  C08F20/26 ,  C08F20/58 ,  C08F32/08 ,  H01L21/30 502R

Fターム (30件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08P ,  4J100AL26P ,  4J100AM21P ,  4J100AR11P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA06P ,  4J100BA15P ,  4J100BA22P ,  4J100BA34P ,  4J100BB11P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC12P ,  4J100BC43P