特許

J-GLOBAL ID：200903083841746307

X線露光装置

発明者： 長谷川 隆行 ,  宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-026337
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074190
出願日： 1998年01月26日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】 マスク倍率を補正した場合にも高精度の露光を可能にする。【解決手段】 マスクと被露光体との平面方向およびそれと垂直な方向の相対位置ずれを測定するAAおよびAF手段と、このAAおよびAF手段の測定値に応じてマスクと被露光体とを前記各方向に相対移動させるステージと、マスク倍率補正機構とを備えたX線露光装置において、マスクの倍率補正によるマスクパターンの位置ずれ量を検出する手段と、その検出結果に応じてAAおよびAF測定値またはステージ駆動量を補正する手段を設ける。

請求項（抜粋）：

マスクと被露光体との平面方向またはそれと垂直な方向の相対位置ずれを測定するAAまたはAF手段と、このAAまたはAF手段の測定値に応じてマスクと被露光体とを前記各方向に相対移動させるステージと、マスク倍率補正機構とを備えたX線露光装置において、マスクの倍率補正によるマスクパターンの位置ずれ量に応じてAAもしくはAF測定値またはステージ駆動量を補正する手段とを有することを特徴とするX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02

FI (4件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 J