特許
J-GLOBAL ID:200903083859131717

電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-019932
公開番号(公開出願番号):特開平5-216253
出願日: 1992年02月05日
公開日(公表日): 1993年08月27日
要約:
【要約】【目的】 水洗浄において超音波照射にともなうキャビテーションによるピンホールの発生及び洗浄液との反応による表面腐食を抑制した電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法を提供する。【構成】 電子写真感光体用導電性基体を純水、イオン交換水又は界面活性剤含有水で洗浄し、撹拌しながら濯ぎ処理し、乾燥処理する。
請求項(抜粋):
電子写真感光体用導電性基体表面を純水、イオン交換水又は界面活性剤含有水で洗浄し、撹拌しながら濯ぎ処理し、乾燥することを特徴とする電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法。

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