特許
J-GLOBAL ID:200903083869181895

X線高次光除去フイルター

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 正年 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-038856
公開番号(公開出願番号):特開平5-011100
出願日: 1991年02月12日
公開日(公表日): 1993年01月19日
要約:
【要約】【目的】 X線領域で分光された回折光に含まれる高次光を有効に除去し、希望する波長のみを選択する。【構成】 多層膜平面反射鏡を入射光軸に垂直な軸の回りに回転させて波長走査を行うX線高次光除去フィルターであり、前記多層膜が、二つの異なる物質を交互に積層し、それぞれの物質の層の膜厚が互いに等しい多層膜からなる。
請求項(抜粋):
多層膜平面反射鏡を入射面に垂直な軸の回りに回転させて波長走査を行うX線高次光除去フィルターにおいて、前記多層膜が、二つの異なる物質を交互に積層し、それぞれの物質の層の膜厚が互いに等しい多層膜からなることを特徴とするX線高次光除去フィルター。
IPC (2件):
G21K 3/00 ,  G21K 1/06

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