特許

J-GLOBAL ID：200903083883786570

超音波基板処理装置

発明者： 芳谷 光明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-276707
公開番号（公開出願番号）：特開2000-107710
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：

【要約】【課題】 超音波によるキャビテーション領域の変動が少ない基板処理装置を提供し、基板の均一な処理を図る。【解決手段】 基板洗浄装置1は、洗浄槽2と、境界板7と、超音波振動子8とを備えている。洗浄槽2には、洗浄液が貯留されており、被処理物である基板Wが収容される。境界板7は、洗浄槽2内の洗浄液とその上方の雰囲気との間に配置される。超音波振動子8は、境界板7に向けて超音波を発振する。

請求項（抜粋）：

基板を収容する処理液槽と、前記処理液槽内の処理液と雰囲気との間に配置される境界板と、前記境界板に向けて超音波を発振する超音波振動子と、を備えた超音波基板処理装置。

IPC (3件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B08B 3/12 A ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 642 E

Fターム (7件)：

3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201AB37 ,  3B201BB04 ,  3B201BB86 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01