特許
J-GLOBAL ID：200903083888427820

高分子フィルムの鹸化処理方法ならびに該鹸化処理方法により処理された高分子フィルム、光学補償フィルム、偏光板、および液晶表示装置

発明者：
石原 信

石原 信 について

, 
大松 禎

大松 禎 について

, 
二村 恵朗

二村 恵朗 について


出願人/特許権者：
富士フイルムホールディングス株式会社

富士フイルムホールディングス株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-159243
公開番号（公開出願番号）：特開2006-335800
出願日： 2005年05月31日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】 高分子フィルムと、接着層や配向膜との密着性を良化させる方法を提供。【解決手段】 下記条件1でアルカリ鹸化した際に、アルカリ鹸化溶液中へ1.0ppm以上溶出する添加剤を少なくとも一種含有する高分子フィルムの鹸化処理方法であって、 該高分子フィルムを、アルカリ鹸化溶液を用いて、下記式(A)で表されるV値が5〜13となる条件で鹸化する工程を含むことを特徴とする鹸化処理方法。 条件1: 1.6×10-6m3のフィルムを、55°Cに加熱した3NのNaOH 50ml中に、 5分間浸漬する。 式(A): T/10+S+D =V [上記式(A)において、Tは鹸化処理温度(°C)、Sは鹸化処理時間(分)、Dは鹸化溶液のアルカリ規定度(N)である。]【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記条件1でアルカリ鹸化した際に、アルカリ鹸化溶液中へ1.0ppm以上溶出する添加剤を少なくとも一種含有する高分子フィルムの鹸化処理方法であって、 該高分子フィルムを、アルカリ鹸化溶液を用いて、下記式(A)で表されるV値が5〜13となる条件で鹸化する工程を含むことを特徴とする鹸化処理方法。 条件1: 1.6×10-6m3のフィルムを、55°Cに加熱した3NのNaOH 50ml中に、 5分間浸漬する。 式(A): T/10+S+D =V [上記式(A)において、Tは鹸化処理温度(°C)、Sは鹸化処理時間(分)、Dは鹸化溶液のアルカリ規定度(N)である。]
IPC (3件)：
C08J 7/12 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (4件)：
C08J7/12 Z ,  G02B5/30 ,  C08J7/12 A ,  G02F1/13363
Fターム (20件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB33 ,  2H049BB42 ,  2H049BC01 ,  2H049BC10 ,  2H049BC22 ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FD15 ,  2H091GA02 ,  2H091GA13 ,  2H091HA06 ,  2H091LA01 ,  4F073AA01 ,  4F073BA03 ,  4F073BB01 ,  4F073EA42
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM