特許
J-GLOBAL ID:200903083911669585
CVDによる被覆触媒を製造する方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
社本 一夫 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-555699
公開番号(公開出願番号):特表2002-518173
出願日: 1999年06月11日
公開日(公表日): 2002年06月25日
要約:
【要約】本発明は、気化可能なPd/Au前駆体のCVD(化学的気相堆積)によるPd/Au含有担持触媒を製造するための方法に関するものである。そのために、適当な貴金属前駆体を、多孔質支持体上に堆積させ、次に熱還元又は化学還元して貴金属にし、それによって当該支持体に対して固定する。特に本発明は、当該方法による多孔質支持体上Pd/Au被覆触媒の製造に関するものである。当該方法で製造された担持支持体は、例えば水素化及び酸化のような多くの不均質触媒反応のために用いることができる。この方法によって製造されたPd/Au被覆触媒は、本発明にしたがって、酢酸ビニルの合成で用いることができる。
請求項(抜粋):
化学的気相堆積(CVD)法によって、分解せずに気化することができる前駆体で支持材を被覆し、それと同時に又はその後に熱還元又は化学還元して金属を固定することによって、多孔質セラミック支持体上に画定されたシェル厚を有する貴金属被覆触媒を製造するための方法。
IPC (6件):
B01J 37/02 301
, B01J 23/58
, C07C 67/05
, C07C 67/055
, C07C 69/15
, C07B 61/00 300
FI (6件):
B01J 37/02 301 P
, B01J 23/58 Z
, C07C 67/05
, C07C 67/055
, C07C 69/15
, C07B 61/00 300
Fターム (77件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01A
, 4G069BA02A
, 4G069BA02B
, 4G069BA04A
, 4G069BA05A
, 4G069BA06A
, 4G069BA08A
, 4G069BA20A
, 4G069BA21A
, 4G069BA21B
, 4G069BA27C
, 4G069BB02A
, 4G069BB02B
, 4G069BB11A
, 4G069BB15A
, 4G069BC02A
, 4G069BC02B
, 4G069BC03A
, 4G069BC03B
, 4G069BC05A
, 4G069BC12A
, 4G069BC13A
, 4G069BC31A
, 4G069BC32A
, 4G069BC33A
, 4G069BC33B
, 4G069BC36A
, 4G069BC42A
, 4G069BC43A
, 4G069BC50A
, 4G069BC51A
, 4G069BC62A
, 4G069BC66A
, 4G069BC67A
, 4G069BC68A
, 4G069BC70A
, 4G069BC71A
, 4G069BC72A
, 4G069BC72B
, 4G069BC74A
, 4G069BC75A
, 4G069BD05A
, 4G069BE04C
, 4G069BE08A
, 4G069BE08B
, 4G069BE11C
, 4G069BE34C
, 4G069CB30
, 4G069EA02Y
, 4G069EB14Y
, 4G069EB15X
, 4G069EB15Y
, 4G069EB18Y
, 4G069EC03X
, 4G069EC03Y
, 4G069EC06Y
, 4G069EC07Y
, 4G069EC08Y
, 4G069EE01
, 4G069FA02
, 4G069FB03
, 4G069FB43
, 4G069FC02
, 4G069FC06
, 4G069FC07
, 4H006AA02
, 4H006AC48
, 4H006BA05
, 4H006BA25
, 4H006BA55
, 4H006BA56
, 4H006BA81
, 4H006KA12
, 4H039CA66
, 4H039CD10
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