特許
J-GLOBAL ID：200903083926156673
レーザマーキング用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-070798
公開番号（公開出願番号）：特開平6-254692
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：
【要約】【目的】 耐熱性があり、付着した汚れを容易に拭き取ることができ、なおかつ、被マーキング物に正確なマークをマーキングすることのできるレーザマーキング用マスクを提供することにある。【構成】 マスクMに照射されたレーザ光は、基板1の一方の面に形成された誘電体多層膜2によって遮光される。一方、そのマスクMにおいて、誘電体多層膜2が形成されていない部分、即ち、パターンaの部分は照射されたレーザ光を透過する。そして、その透過したレーザ光によって、被マーキング物にそのパターンaに対応したマークをマーキングする。さらに、レーザ光の入射面、出射面に反射防止膜3がコートされているので、効率良く、レーザ光を利用できる。
請求項（抜粋）：
レーザ光を透過する基板と、該基板の一方の面に被マーキング物にマークされるパターン以外の部分に形成された前記レーザ光を透過しない誘電体多層膜と、前記基板のパターン部分及び該誘電体多層膜が形成されていない前記基板の他方の表面に前記レーザ光の反射を防止するために形成された反射防止膜とよりなるレーザマーキング用マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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