特許

J-GLOBAL ID：200903083926622151

露光装置及び方法、位置制御方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 山口 敦史
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-027376
公開番号（公開出願番号）：特開2005-252246
出願日： 2005年02月03日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

【課題】 液浸露光装置において干渉計システムを使った計測処理を良好に行って精度良く露光処理できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置EXは、液体LQを介して基板Pを露光するものであって、基板Pを保持可能な基板ステージPSTと、基板ステージPST上の移動鏡に形成された反射面に測定光を照射するとともに、その反射光を受光して、基板ステージPSTの位置情報を計測する干渉計システム43と、基板ステージPST上に液体LQが供給された状態での反射面の誤差情報を第1情報として記憶するメモリMRYとを備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

液体を介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、 前記基板を保持可能な移動体と、 前記移動体に形成された反射面に測定光を照射するとともに、その反射光を受光して、前記移動体の位置情報を計測する干渉計システムと、 前記移動体上に液体が供給された状態での前記反射面の誤差情報を第1情報として記憶するメモリとを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (5件)：

H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01B11/24 ,  G01B11/26 ,  G03F7/20

FI (6件)：

H01L21/30 515D ,  G01B11/00 G ,  G01B11/26 G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 514E ,  G01B11/24 D

Fターム (26件)：

2F065AA06 ,  2F065AA07 ,  2F065AA20 ,  2F065AA35 ,  2F065AA39 ,  2F065AA45 ,  2F065AA49 ,  2F065BB01 ,  2F065BB02 ,  2F065BB25 ,  2F065BB27 ,  2F065CC17 ,  2F065FF49 ,  2F065FF52 ,  2F065FF55 ,  2F065GG05 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065LL17 ,  2F065LL36 ,  2F065LL37 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046CB23

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 国際公開第99/49504号パンフレット