特許

J-GLOBAL ID：200903083994569218

走査露光装置及びこの装置に用いる面位置検出方法

発明者： 宮井 恒夫 ,  近藤 尚人
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-287640
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100552
出願日： 2000年09月21日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】 露光光に対する基板の走査速度が速くなる場合でも、デフォーカス状態で露光されるのを防止した走査露光装置及びこの装置に用いる面位置検出方法を提供する。【解決手段】 走査露光装置は、マスク上のパターンを露光光を用いてウェハW上に投影し、ウェハWを露光光に対して走査し、ウェハの面位置情報を露光光より走査方向手前で複数のセンサにより計測し、この結果から算出された近似面をパターンの像面に合わせ込んでパターンをショット領域Shに順次露光する。ショット領域内の段差をセンサにより計測し、この結果に基づき位置合わせ制御に用いるのに適したセンサを選択する。このセンサで計測したウェハの面位置情報には、露光時の位置合わせ制御が不能になるような段差の大きい個所のデータは含まれなくなる。

請求項（抜粋）：

マスクに形成された所定のパターンを露光光を用いて基板上に投影し、同基板を露光光に対して走査しながら、基板の面位置情報を露光光より走査方向手前で複数のセンサにより計測し、この計測結果から算出された近似面を前記パターンの像面に合わせ込む位置合わせ制御を行って前記パターンを基板の露光領域に順次走査露光する走査露光装置であって、前記露光領域内の段差形状を前記複数のセンサにより計測するとともに、この段差計測結果に基づいて、前記複数のセンサの中から、前記露光の際に前記位置合わせ制御に用いるのに適したセンサを選択するセンサ選択手段を有することを特徴とする走査露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (6件)：

G01B 11/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 526 B ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 518

Fターム (26件)：

2F065AA02 ,  2F065AA24 ,  2F065AA25 ,  2F065BB02 ,  2F065BB29 ,  2F065CC19 ,  2F065FF09 ,  2F065FF24 ,  2F065FF55 ,  2F065HH05 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL02 ,  2F065LL12 ,  2F065LL28 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065MM26 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ28 ,  5F046BA05 ,  5F046CB26 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10