特許
J-GLOBAL ID：200903083997749950
光束合成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西脇 民雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-096804
公開番号（公開出願番号）：特開平5-297323
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 ポリゴンミラー等の素子を大きくすることなく、かつ、干渉による影響を受けずにより多くの光束を発生することができる光束合成装置を提供することを目的とする。【構成】 入射する光束をその偏光方向により透過、あるいは反射させる偏光分離面31を有する偏光ビームスプリッター30と、偏光ビームスプリッター30に対して偏光分離面31を透過する偏光方向の複数の光束を入射させる第1の光源部10と、偏光ビームスプリッター30に対して偏光分離面31で反射される偏光方向の複数の光束を入射させる第2の光源部20とを備え、偏光ビームスプリッター30から射出する際に、第1、第2の光源部から発した光束が交互に並列するよう構成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
入射する光束をその偏光方向により透過、あるいは反射させる偏光分離面を有する偏光素子と、該偏光素子に対して前記偏光分離面を透過する偏光方向の複数の光束を入射させる第1の光源部と、前記偏光素子に対して前記偏光分離面で反射される偏光方向の複数の光束を入射させる第2の光源部とを備え、前記偏光素子から射出する際に、前記第1、第2の光源部から発した光束が交互に並列するよう構成したことを特徴とする光束合成装置。
IPC (2件)：
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