特許
J-GLOBAL ID：200903083999285528

投影光学系、露光装置及び露光方法

発明者：
池沢 弘範

池沢 弘範 について

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大村 泰弘

大村 泰弘 について

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西山 道子

西山 道子 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-129780
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335746
出願日： 2003年05月08日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】投影光学系を液浸状態で使用した場合において、収差が少なく、結像性能を劣化させることのない投影光学系、露光装置及び露光方法を提供する。【手段】液浸可能な投影露光装置において、前記投影光学系の最も基板側のレンズ面の曲率半径Rとし、前記感光面に投影される最大像高をYとした場合に、1<R/Y<7を満たすように形成し収差を低減させる。又、液浸の液体が光を吸収する場合、投影光学系に用いられる硝材の一部を透過率の低い硝材により形成し、液体中を透過する距離が長い光路の光線は、透過率の低い硝材内を透過する距離を短くし、液体中を透過する距離の短い光路の光線は、透過率の低い硝材内を透過する距離を長くなるよう形成される。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
原版上に描画されたパターンを基板の感光面に転写する投影光学系を有し、前記投影光学系の最も基板側のレンズ面と前記基板の感光面との間の空間に、所定の液体を挿入する液浸可能に形成された投影露光装置において、前記投影光学系の最も基板側のレンズ面の曲率半径をRとし、前記基板の感光面に投影される最大像高をYとした場合に、 1<R/Y<7 を満たすように形成されたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G02B13/24 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G02B13/24 ,  G03F7/20 521
Fターム (19件)：
2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB20 ,  2H087QA03 ,  2H087QA06 ,  2H087QA19 ,  2H087QA22 ,  2H087QA25 ,  2H087QA26 ,  2H087QA37 ,  2H087QA41 ,  2H087QA45 ,  2H087UA09 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DA12
引用特許：
審査官引用 (6件)
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