特許

J-GLOBAL ID：200903084005677836

混入物の除去装置、これを用いた処理装置の真空排気系及びそのメンテナンス方法

発明者： 藤川 雄一郎 ,  村上 誠志 ,  波多野 達夫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  テル・エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-119404
公開番号（公開出願番号）：特開平8-290050
出願日： 1995年04月20日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【目的】 排気ガス中に含まれる未反応処理ガスや反応生成物等の混入物を効率良く除去することができる、混入物の除去装置を提供する。【構成】【請求項1】 排気通路36に真空ポンプ42、46を設けてなる処理装置2の真空排気系に介設される混入物の除去装置において、前記真空ポンプよりも上流側の前記排気通路に介設されるハウジング76と、このハウジングに着脱可能に設けられて排気ガス中の混入物を吸着するトラップ本体78と、このトラップ本体に設けられる冷却手段98とを備える。これにより、冷却されたトラップ本体と排気ガスとを接触させることにより、ガス状の混入物を冷却して液化し、付着させる。

請求項（抜粋）：

排気通路に真空ポンプを設けてなる処理装置の真空排気系に介設される混入物の除去装置において、前記真空ポンプよりも上流側の前記排気通路に介設されるハウジングと、このハウジングに着脱可能に設けられて排気ガス中の混入物を吸着するトラップ本体と、このトラップ本体に設けられる冷却手段とを備えるように構成したことを特徴とする混入物の除去装置。

IPC (7件)：

B01J 3/00 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/58 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285

FI (7件)：

B01J 3/00 J ,  C23C 16/44 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/34 131

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平2-093070
  
• 特開平3-028377
  
• 特開平4-150903
  

審査官引用 (6件)

• 特開平2-093070
  
• 特開平2-093070
  
• 特開平3-028377
  
• 特開平3-028377
  
• 特開平4-150903
  
• 特開平4-150903