特許

J-GLOBAL ID：200903084006201428

ブラックマトリックス基板形成のための無電解メッキ液およびそれを用いて形成したブラックマトリックス基板

発明者： 三田村 聡
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-065248
公開番号（公開出願番号）：特開平6-073553
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：

【要約】【目的】 液晶ディスプレイ等のフラットディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ等のカラーフィルタに用いることのできる寸法精度が高く遮光性に優れ反射率の低いブラックマトリックス基板、および、そのようなブラックマトリックス基板を低コストで製造することのできる無電解メッキ液を提供する。【構成】 水素化ホウ素化合物、次亜リン酸および次亜リン酸塩の中から選ばれた少なくとも一つの還元剤と、有機カルボン酸およびその塩の中から選ばれた少なくとも一つの錯化剤と、コバルト塩およびニッケル塩の中から選ばれた少なくとも一つの金属塩とを含有するメッキ液において、前記還元剤の濃度が0.005〜1mol/リットル、前記錯化剤の濃度が0.005〜5mol/リットル、前記金属塩の濃度が0.01〜1mol/リットルである。

請求項（抜粋）：

水素化ホウ素化合物、次亜リン酸および次亜リン酸塩の中から選ばれた少なくとも一つの還元剤と、有機カルボン酸およびその塩の中から選ばれた少なくとも一つの錯化剤と、コバルト塩およびニッケル塩の中から選ばれた少なくとも一つの金属塩とを含有するメッキ液において、前記還元剤の濃度が0.005〜1mol/リットル、前記錯化剤の濃度が0.005〜5mol/リットル、前記金属塩の濃度が0.01〜1mol/リットルであることを特徴とするブラックマトリックス基板形成のための無電解メッキ液。

IPC (4件)：

C23C 18/36 ,  C23C 18/34 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505